弥合现实差距:面向 1.8Tb/s 芯粒治理的全新架构
本文由 Socionext 公司首席架构师 Moh Kolbehdari 博士撰写,聚焦1.8Tb/s 高速互联与2nm 先进工艺下的芯粒(Chiplet)体系架构,提出SEGA™治理架构,用于解决仿真与大规模量产之间的 “现实差距”。
Moh Kolbehdari 博士是 Socionext 公司高级首席架构师,专注于高性能 AI 芯粒与 1.8Tb/s 互联的产业化落地。他拥有二十余年信号完整性 / 电源完整性、电磁场理论与系统级架构经验,是衔接前沿芯片设计与大规模量产的核心专家。
他创立了SEGA™(系统化工程治理架构) 框架,用于解决异构集成中的 “复杂性危机”。其研究核心是将封装层改造为主动控制平面,利用场限电磁通道与状态感知因果关系,确保 2nm 及以下工艺的确定性良率。他长期参与行业标准委员会,以 “物理优先” 思路破解半导体行业最棘手的熵增壁垒。
2nm 节点的熵增壁垒
半导体行业正遭遇可追溯性壁垒。当技术迈向 1.8Tb/s 互联与大规模 2.5D/3D AI 芯粒系统时,传统 “先设计后验证” 流程已失效。我们再也不能将封装视为硅片的被动 “容器”;在如此高速与高密度下,封装必须被看作主动控制平面。
“现实差距”—— 理想仿真状态与大规模量产(HVM)良率之间的偏差 —— 正在持续扩大。标准 EDA 工具擅长预测标称性能,但往往无法覆盖封测厂(OSAT)环境的随机特性。要弥合这一差距,必须跳出 “标称设计” 思维,转向治理式收敛。
SEGA™:系统化工程治理架构
为应对这种复杂性,我开发了SEGA™。它是位于标准 EDA 生态之上的治理层,在仿真、实验室测试与 OSAT 量测之间强制执行统一的 “就绪闭环”。SEGA™确保每 1 皮秒的信号性能都有来自产线的有效证据支撑。
结论:治理式收敛
别再设计走线,开始架构通道。
下一代先进封装的胜负手,将是治理式收敛,而非单纯的设计活动。

如图 1(治理收敛金字塔)所示,SEGA™建立了三层系统成功保障体系:
底层:封装即控制平面
将基板视为动态枢纽,统一管控信号完整性(SI)、电源完整性(PI)、电源与热应力。通过统一调度这些变量,避免各领域孤立设计导致的后期 “崩盘”。
中层:电磁通道架构
传统 PCB 与封装走线在亚太赫兹频率下会变得混乱。我们采用场限物理通路(电磁通道),确保电磁场在 BGA 过渡区保持连续。
顶层:证据门禁
最终过滤机制:只有通过状态感知因果过滤的数据,才能进入流片。每项仿真结果都必须对照实际制造模式完成 “认证”。
直面封测厂(OSAT)现实
现代芯粒系统面临的最大威胁不只是信号衰减,更是产线的物理变量:基板翘曲、焊球塌陷、热漂移等,这些都是理想仿真常常忽略的OSAT 现实。当设计从实验室进入大规模量产,这些物理应力会引入 “熵增”,导致性能劣化。

治理式收敛:弥合现实差距
通过状态感知因果,我们将性能劣化与具体形变模式直接关联。例如,若 1.8Tb/s 眼图在应力测试中闭合,SEGA™框架不只是报告失败,还能精准定位成因 —— 如 30μm 基板翘曲或横向偏移。这将 “失效分析” 从被动猜谜,转变为确定性治理。
深度案例:AI 芯粒电源分配网络(PDN)阻抗平坦化
系统化治理的价值在电源网络中尤为突出。高性能 AI 系统中,抑制中频裸片谐振对高负载下的系统稳定性至关重要。
本案例针对 2.5D AI 芯粒电源架构(CPA),展示如何通过封装内本地化 VRM(PCA) 实现 PDN 治理。传统 PCB 上的 VRM 难以处理中介层与裸片级的谐振峰值。通过将 VRM 响应与状态映射得出的封装内寄生参数精准匹配,我们成功将 170–280MHz 的裸片谐振峰值压制在0.09Ω 目标阻抗以下。
这种平坦度确保硅片在相邻芯粒频繁切换时仍拥有稳定电压环境。理想仿真可给出建议,但只有 SEGA™这类治理架构能在量产中真正保证这一结果。

未来之路:互联技术产业化
迈向 2nm 及以下工艺不只是光刻挑战,更是治理挑战。当行业向 10Tb/s UCIe 目标与更复杂的异构系统演进时,能打通仿真与产线差距的架构师,将定义未来。
下一代先进封装的胜利,属于治理式收敛,而非单纯的设计活动。通过部署 SEGA™,我们推动行业走向 “一次成功” 不再是目标,而是架构本身带来的确定性结果。
加入微信
获取电子行业最新资讯
搜索微信公众号:EEPW
或用微信扫描左侧二维码
