三星电子美国泰勒厂启动EUV光刻机调试

时间:2026-04-08来源:SEMI

据韩媒报道,三星电子位于美国得克萨斯州泰勒市的2nm晶圆厂已进入试运营阶段,EUV光刻机的测试已启动,蚀刻和沉积流程的主要设备也正分阶段导入,为今年内的初步运营和2027年的全面投产做好准备。

据了解,该工厂2nm工艺的每月晶圆产能目标从最初的2万片上调至5万片。按照规划,泰勒工厂的每月晶圆产能有望在2027年达到10万片。


关键词: 三星 EUV光刻机

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